提高加热炉热效率的主要措施：
（1）采用高效、大能量的燃烧器，提高燃烧质量。
（2）监控烟气中的氧和一氧化碳含量，降低过剩空气系数。
（3）增设空气预热器或余热锅炉，回收烟气余热。
（4）对流室采用钉头管或翅片管，设置自动吹灰器，强化对流式的传热过程，使之多吸收热量。
（5）采用低传热系数的耐火绝热材料，降低炉壁散热损失。
（6）加强堵漏，减少漏入炉膛的空气量。
（7）采用计算机或数字控制仪进行最.佳燃烧控制。
化学气相沉积(cvd)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(si3n4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。
炉体结构：双层壳体，风冷系统，炉体表面温度≤60℃
炉膛材质：进口高纯氧化铝拼搭式炉膛
控温系统：采用人工智能调节技术，具有pid调节功能，30段升降温程序
显示模式：led数显仪表
加热方式：低功耗两面均匀加热
工作温度：可达1400℃，连续工作温度≤1300℃
安全功能：超温报警、漏电保护
可冲气氛：氮气、氧气、氩气及其它惰性气体
标准配置：防护手套,坩埚,刚玉舟,刚玉管,炉塞,炉勾,内六角扳手,法兰,高压气管,高温密封圈,浮子流量计,气管转接头,产品说明书,仪表说明书,保修证书

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